NVM
다양한 제품 환경에 최적화된
Non-Volatile Memory Solution
코아솔은 Security · MCU · Automotive · Display · CIS 등 다양한 제품 환경에 대응하는 NVM IP 솔루션을 제공합니다.
Density · Endurance · Power 특성을 기반으로 고객의 공정 및 제품 요구사항에 최적화된 비휘발성 메모리 설계를 지원합니다.
NVM PRODUCT LINE-UP
제품 특성과 공정 환경에 따라 다양한 구조와 용도의 NVM IP를 제공합니다.
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eMRAM
고신뢰성 및 고집적 환경에 대응하는 MRAM 기반 Memory 솔루션
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eFlash
전기적 Erase/Program이 가능한 NOR Flash 기반 NVM 솔루션
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eOTP
보안 프로그래밍 환경에 최적화된 One-Time Programmable Memory
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eFuse
ECID 및 Secure Code 저장을 지원하는 eFuse 기반 OTP Memory
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Soft Macro
Memory Test 및 제어 기능을 지원하는 BIST & Controller 솔루션
eMRAM
코아솔 eMRAM IP는 Automotive 및 고신뢰성 제품 환경에 대응하는 비휘발성 메모리 솔루션입니다.
High Density Macro 구조와 Multi-Row Redundancy, ECC 및 Power Optimization 기능을
기반으로 다양한 공정 환경에 최적화된 eMRAM 설계를 지원합니다.
MRAM INSTANCE TYPES
| Product | 주요 특징 | IP Density |
|---|---|---|
| Big Macro |
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SUPPORTED PROCESS
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28nm
Samsung 28nm Process
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14nm
Samsung 14nm Process
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8nm
Samsung 8nm Process
KEY FEATURES
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Read / Write Dual Supply Voltage 지원
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Automotive Grade 대응 (Tj : -40℃ ~ 150℃)
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eMRAM 특성 기반 Magnet 대응 설계
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Soft Macro 기반 Memory Test 지원
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Sigma Coverage 기반 Read / Write Margin 설계
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Power Optimization을 위한 Specialty Power Gating 지원
eFlash
코아솔 eFlash IP는 Random Access 기반의 비휘발성 메모리 솔루션으로,
Automotive 및 Industrial 환경에 대응하는 고신뢰성 eFlash 설계를 지원합니다.
Single-Bank 및 Multi-Bank 구조와 ECC 및 Redundancy 기능을 기반으로
다양한 제품 환경에 최적화된 eFlash IP를 제공합니다.
FLASH INSTANCE TYPES
| Product | 주요 특징 | IP Density |
|---|---|---|
| Single MAT Macro |
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| Multi MAT Macro |
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SUPPORTED PROCESS
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LNF28LP
Samsung LNF28LP Process
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LNF45LS
Samsung LNF45LS Process
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65nm ~ 130nm
Samsung 65nm ~ 130nm Process
KEY FEATURES
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Read / Program / Erase Dual Supply Voltage 지원
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Automotive / Industrial Grade 대응 (Tj : -40℃ ~ 125℃)
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Sigma Coverage 기반 Read / Program / Erase Margin 설계
eOTP
코아솔 eOTP IP는 표준 CMOS 공정 기반의 비휘발성 One-Time Programmable Memory 솔루션입니다.
Secure Programming 구조를 기반으로 Voltage Contrast 및 Hot Spot Detection과 같은 Reverse Engineering 대응이 가능하며, Industrial 및 Automotive 환경에 최적화된
고신뢰성 OTP 설계를 지원합니다.
OTP INSTANCE TYPES
| Product | 주요 특징 | IP Density |
|---|---|---|
| Macro |
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SUPPORTED PROCESS
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14nm
Samsung 14nm Process
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28nm
Samsung 28nm Process
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45nm
Samsung 45nm Process
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65nm ~ 130nm
Samsung 65nm ~ 130nm Process
KEY FEATURES
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Read / Program / Erase Dual Supply Voltage 지원
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Industrial / Automotive Grade 대응 (Tj : -40℃ ~ 125℃ / 150℃)
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Sigma Coverage 기반 Read / Program Margin 설계
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On-board Program 지원
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Reverse Engineering 대응 (Voltage Contrast / Hot Spot Detection)
eFuse
코아솔 eFuse IP는 ECID(Electrical Chip-ID), Repair Memory Address 및
Secure Code 저장을 지원하는 OTP(One-Time Programmable) 기반 비휘발성 메모리 솔루션입니다.
표준 CMOS 공정 기반의 Programmable Memory 구조를 통해, 다양한 공정 환경과
Industrial · Automotive 제품에 최적화된 eFuse 설계를 지원합니다.
eFUSE INSTANCE TYPES
| Product | 주요 특징 | IP Density |
|---|---|---|
| 1D-Type Macro |
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| 2D-Type Macro |
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SUPPORTED PROCESS
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4nm
Samsung 4nm Process
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5nm
Samsung 5nm Process
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8nm
Samsung 8nm Process
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14nm
Samsung 14nm Process
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28nm
Samsung 28nm Process
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45nm
Samsung 45nm Process
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65nm ~ 130nm
Samsung 65nm ~ 130nm Process
KEY FEATURES
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Read / Program Dual Supply Voltage 지원
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Industrial / Automotive Grade 대응 (Tj : -40℃ ~ 125℃ / 150℃)
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Sigma Coverage 기반 Read / Program Margin 설계